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图2MoS2经NaClO化学活化后边缘形态分析（a）NaClO化学活化后，场化MoS2边缘形态的AFM图像。交易本文由材料人编辑部张金洋编译整理。信息（f）刻蚀长度与时间的关系图。

披露（d）MoS2纳米片在化学刻蚀前后及刻蚀后边缘和基面区域的拉曼光谱比较图（插图：405cm-1处的拉曼强度映射图）。省内市场图3O2plasma预处理对MoS2刻蚀的作用分析（a）O2plasma在MoS2基面上制造缺陷示意图。

可竞（b）图a样品的塔菲尔曲线图。

（c）顶视图观察，电量刻蚀后边缘椅式结构的MoS2示意图。千瓦本文由材料人编辑部张金洋编译整理。

然而，年1南电制备具有大量边缘活性位点的单晶MoS2仍然具有挑战性。该化学蚀刻方法为在原子结构修饰TMDs提供了一种新方法，月云预计1亿可以调控层状TMDs电化学性质和新型晶体管制造。

【引言】二维层状材料二硫化钼（MoS2）作为一种很有前景的析氢反应(HER)催化剂，力市通常被认为是电解水制氢中铂（Pt）催化剂的良好替代品。图2MoS2经NaClO化学活化后边缘形态分析（a）NaClO化学活化后，场化MoS2边缘形态的AFM图像。